आमतौर पर उपयोग की जाने वाली फोटोकैटलिस्ट सामग्री मुख्य रूप से एन - प्रकार की सेमीकंडक्टर सामग्री होती है, जिसमें कम बैंड गैप की विशेषताएं होती हैं, और आमतौर पर उपयोग की जाने वाली फोटोकैटलिस्ट सेमीकंडक्टर सामग्री टाइटेनियम डाइऑक्साइड होती हैं।
ZrO2, ZnO, CdS, WO3, Fe2O3, PbS, SnO2, ZnS, SrTiO3, SiO2, आदि भी फोटोकैटलिस्ट सामग्री हैं, 2000 के बाद से, यह पाया गया है कि कुछ नैनो कीमती धातुओं (प्लैटिनम, रोडियम, पैलेडियम, आदि) में बेहतर फोटोकैटलिटिक गुण होते हैं, लेकिन क्योंकि उनमें से अधिकांश रासायनिक या फोटोकैमिकल जंग के लिए प्रवण होते हैं। कीमती धातुओं की कीमत बहुत अधिक है, और वे दैनिक उपयोग के लिए उपयुक्त नहीं हैं।